方案特点：A.建议新风经过集中处理后再与回风混合，这样可以减少表冷段的冷处理负担; B.这类方案一般可以适用洁净度较高的如百级、千级或万级、十万级等较低的净化无尘厂房。光学微电子净化工程一般包括：1、 洁净生产区；2、洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）3、管理区（包括办公、值班、管理和休息等）
净化方案三：分体空调柜机+FFU送风口：这是简易的一个空调方案。是直接将分体空调柜机布置于车间内，并用彩钢围护起来，在柜机回风口处再在彩钢板上开回风口(带初效过滤网);佰伦风机过滤单元FFU均匀布置于吊顶天花。这个方案适用于对室内温湿度精度要求不高的无尘车间。方案特点：A、无尘车间的洁净度：LCD制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。 B、温湿度要求：温度一般为24+2℃，相对湿度为55+5%。 C、新风量大 D、送风量大
和其他产业不同，集成电路产业链几乎所有环节都需要在洁净室内完成，从单晶硅片制造，到IC制造的几乎所有环节，到IC封装都需要在洁净室中完成，且对于洁净度的要求非常高。如，14纳米工艺中7纳米的微粒就会影响制造过程。集成电路制造过程需要的洁净程度越来越高，对于洁净室工程的技术提出越来越高的要求。洁净室工程是集成电路制造环节中重要的一环，直接决定了终产品的成败。
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